紫外線レーザーマーキングマシンはレーザーマーキングマシンの一種に属しているため、同じレーザーマーキングマシンの原理は似ており、永久マークの表面にさまざまな異なる物質のレーザービームが照射されます。その反応メカニズムは光化学的アブレーション効果、つまりレーザーエネルギーに依存して原子または分子間の結合を遮断し、小分子のガス化、蒸発を引き起こします。集光スポットは非常に小さく、プロセスの熱影響ゾーンは無視できるため、超微細なマーキングや特殊な材料のマーキングが可能です。
» 良好なビーム品質、集束スポットは非常に小さく、超微細マーキングを実現できます。
» ほとんどの材料は UV レーザーを吸収できるため、適用範囲はより広くなります。
» 紫外線レーザーは冷光源であり、熱の影響を受けるゾーンが非常に小さい場合にはレーザーマーキングまたはレーザー切断が行われ、熱の影響は生じません。
» レーザー20,000時間メンテナンスフリー、消耗品不要、低コスト使用、省電力、省エネです。
» RoHS 規格に準拠した環境保護のマーキング。
» 高精度、高ピークパワー、高変調周波数など。金属加工分野で非常に優れた用途を持っています。輸入されたコアデバイス、速い処理速度。
従来の UV レーザーマーキングマシンは、さまざまなロゴ、製品モデル、製造日、ランニングコード、文字説明、バーコード、二次元コード、グラフィックパターンなどの内容を製品にレーザー彫刻するだけです。現在、レーザー装置の急速な発展に伴い、紫外線レーザーマーキング機の機能向上により、超微細加工市場、iPhone、化粧品、医薬品、食品、その他の高分子材料の包装ボトル表面マーキングに適用されています。フレキシブル PCB ボードのマーキング、スクライビング。シリコンウェーハ微多孔性、止まり穴加工。LCD液晶ガラス、ガラス製品表面、金属表面メッキ、プラスチックボタン、電子部品、ギフト、通信機器、建材などの分野。また、金属または非金属のマーク、テキスト、パターン、携帯電話のボタンなど、生活の中でよく使われる多くのサインも UV レーザーマーキングマシンで実現されます。
紫外線レーザーマーキングマシンはレーザーマーキングマシンの一種に属しているため、同じレーザーマーキングマシンの原理は似ており、永久マークの表面にさまざまな異なる物質のレーザービームが照射されます。その反応メカニズムは光化学的アブレーション効果、つまりレーザーエネルギーに依存して原子または分子間の結合を遮断し、小分子のガス化、蒸発を引き起こします。集光スポットは非常に小さく、プロセスの熱影響ゾーンは無視できるため、超微細なマーキングや特殊な材料のマーキングが可能です。
» 良好なビーム品質、集束スポットは非常に小さく、超微細マーキングを実現できます。
» ほとんどの材料は UV レーザーを吸収できるため、適用範囲はより広くなります。
» 紫外線レーザーは冷光源であり、熱の影響を受けるゾーンが非常に小さい場合にはレーザーマーキングまたはレーザー切断が行われ、熱の影響は生じません。
» レーザー20,000時間メンテナンスフリー、消耗品不要、低コスト使用、省電力、省エネです。
» RoHS 規格に準拠した環境保護のマーキング。
» 高精度、高ピークパワー、高変調周波数など。金属加工分野で非常に優れた用途を持っています。輸入されたコアデバイス、速い処理速度。
従来の UV レーザーマーキングマシンは、さまざまなロゴ、製品モデル、製造日、ランニングコード、文字説明、バーコード、二次元コード、グラフィックパターンなどの内容を製品にレーザー彫刻するだけです。現在、レーザー装置の急速な発展に伴い、紫外線レーザーマーキング機の機能向上により、超微細加工市場、iPhone、化粧品、医薬品、食品、その他の高分子材料の包装ボトル表面マーキングに適用されています。フレキシブル PCB ボードのマーキング、スクライビング。シリコンウェーハ微多孔性、止まり穴加工。LCD液晶ガラス、ガラス製品表面、金属表面メッキ、プラスチックボタン、電子部品、ギフト、通信機器、建材などの分野。また、金属または非金属のマーク、テキスト、パターン、携帯電話のボタンなど、生活の中でよく使われる多くのサインも UV レーザーマーキングマシンで実現されます。
モデル | TH-UVLMS3 |
波長 | 355nm |
レーザー出力 | 3w@50KHz |
彫刻範囲 | 100×100mm(オプション) |
分。キャラクター | 0.15mm |
彫刻速度 | ≤ 7000mm/秒 |
繰り返し精度 | ±0.003mm |
分。線幅 | 0.01mm(材質による)@ F=160mm |
ビーム品質 | ≤ 1.3 |
パルス繰り返し周波数 | 30~150kHz |
消費電力 | 1000ワット |
冷却方法 | 空冷/水冷 冷却 |
モデル | TH-UVLMS3 |
波長 | 355nm |
レーザー出力 | 3w@50KHz |
彫刻範囲 | 100×100mm(オプション) |
分。キャラクター | 0.15mm |
彫刻速度 | ≤ 7000mm/秒 |
繰り返し精度 | ±0.003mm |
分。線幅 | 0.01mm(材質による)@ F=160mm |
ビーム品質 | ≤ 1.3 |
パルス繰り返し周波数 | 30~150kHz |
消費電力 | 1000ワット |
冷却方法 | 空冷/水冷 冷却 |
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