ファイバーレーザーマーキングマシンは、(レーザータイプライター、レーザープリンター、レーザーマーキングマシン)としても知られており、レーザー加工の原理の重要な応用です。つまり、加工されたレーザービームを材料の表面に照射し、光を使用します。エネルギーが瞬時に熱に変換され、表面の物質が瞬時に溶解、さらにはガス化して跡が形成されます。レーザーマーキングは、ターゲットの役割上で高エネルギー密度のレーザービームを使用することで、ターゲットの表面が物理的または化学的に変化し、マーキング方法の目に見えるパターンを取得し、作成されたワークピースの表面にレーザーの作用を与えます。しっかりとした耐久性がその優れた特徴です。
' 永続。たとえば、マーキングは環境(接触、酸性およびアルカリ性ガス、高温および低温など)によって色褪せません。
» 偽造防止。レーザーマーキング技術により刻印されたマークは模倣・変更が難しく、ある程度の偽造防止力が強いです。
» 非接触。レーザーマーキングは加工用の非機械的な「軽いナイフ」であり、規則的または不規則な表面マーキングに印刷でき、ワークピースのマーキングは内部応力を発生させず、ワークピースの本来の精度を保証します。作業面は腐食を引き起こさず、「工具」の磨耗がなく、無毒、無公害であり、クリーンで無公害の高度な環境保護加工技術です。
» 幅広い応用性。レーザーは、幅広い金属および非金属材料 (アルミニウム、銅、鉄、木製品など) を加工する手段として使用できます。
ファイバーレーザーマーキングマシンは、集積回路チップ、コンピューター部品、工業用ベアリング、時計、電子機器、通信製品、航空宇宙機器、さまざまな自動車部品、家電製品、ハードウェアツール、金型、ワイヤーとケーブル、食品包装などに広く使用されています。 、宝飾品、タバコ、軍事関連、その他のグラフィックおよびテキストマーキングの分野、および大量生産ラインの運用に使用されます。
ファイバーレーザーマーキングマシンは、(レーザータイプライター、レーザープリンター、レーザーマーキングマシン)としても知られており、レーザー加工の原理の重要な応用です。つまり、加工されたレーザービームを材料の表面に照射し、光を使用します。エネルギーが瞬時に熱に変換され、表面の物質が瞬時に溶解、さらにはガス化して跡が形成されます。レーザーマーキングは、ターゲットの役割上で高エネルギー密度のレーザービームを使用することで、ターゲットの表面が物理的または化学的に変化し、マーキング方法の目に見えるパターンを取得し、作成されたワークピースの表面にレーザーの作用を与えます。しっかりとした耐久性がその優れた特徴です。
' 永続。たとえば、マーキングは環境(接触、酸性およびアルカリ性ガス、高温および低温など)によって色褪せません。
» 偽造防止。レーザーマーキング技術により刻印されたマークは模倣・変更が難しく、ある程度の偽造防止力が強いです。
» 非接触。レーザーマーキングは加工用の非機械的な「軽いナイフ」であり、規則的または不規則な表面マーキングに印刷でき、ワークピースのマーキングは内部応力を発生させず、ワークピースの本来の精度を保証します。作業面は腐食を引き起こさず、「工具」の磨耗がなく、無毒、無公害であり、クリーンで無公害の高度な環境保護加工技術です。
» 幅広い応用性。レーザーは、幅広い金属および非金属材料 (アルミニウム、銅、鉄、木製品など) を加工する手段として使用できます。
ファイバーレーザーマーキングマシンは、集積回路チップ、コンピューター部品、工業用ベアリング、時計、電子機器、通信製品、航空宇宙機器、さまざまな自動車部品、家電製品、ハードウェアツール、金型、ワイヤーとケーブル、食品包装などに広く使用されています。 、宝飾品、タバコ、軍事関連、その他のグラフィックおよびテキストマーキングの分野、および大量生産ラインの運用に使用されます。
モデル | TH-FLMS20 | TH-FLMS30 | TH-FLMS50 | TH-FLMS100 | TH-FLMS200 | TH-FLMSMP20 | TH-FLMSMP30 | TH-FLMSMP60 |
波長 | 1064nm | |||||||
レーザー光源 | ファイバーレーザー | MOPAレーザー | ||||||
レーザー出力 | 20W | 30W | 50W | 100W | 200W | 20W | 30W | 50W |
冷却方法 | 空冷 | |||||||
マーキング範囲 | 100x100mm オプション | |||||||
繰り返し精度 | ±0.003mm | |||||||
分。線幅 | 0.045mm | |||||||
一点エネルギー | 1.5mj | |||||||
ビーム品質 | ≤1.2 | ≤1.3 | ≤1.5 | |||||
パルス幅 | 100ns | 2~350ns | ||||||
パルス繰り返し周波数 | 20~200kHz | 1~4000kHz | ||||||
彫刻速度 | ≤7000mm/秒 | |||||||
保護クラス | IP54 |
モデル | TH-FLMS20 | TH-FLMS30 | TH-FLMS50 | TH-FLMS100 | TH-FLMS200 | TH-FLMSMP20 | TH-FLMSMP30 | TH-FLMSMP60 |
波長 | 1064nm | |||||||
レーザー光源 | ファイバーレーザー | MOPAレーザー | ||||||
レーザー出力 | 20W | 30W | 50W | 100W | 200W | 20W | 30W | 50W |
冷却方法 | 空冷 | |||||||
マーキング範囲 | 100x100mm オプション | |||||||
繰り返し精度 | ±0.003mm | |||||||
分。線幅 | 0.045mm | |||||||
一点エネルギー | 1.5mj | |||||||
ビーム品質 | ≤1.2 | ≤1.3 | ≤1.5 | |||||
パルス幅 | 100ns | 2~350ns | ||||||
パルス繰り返し周波数 | 20~200kHz | 1~4000kHz | ||||||
彫刻速度 | ≤7000mm/秒 | |||||||
保護クラス | IP54 |